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InvestigaçãoMarca: KPT
O pó metálico fino KPT FeSi é na verdade um material de alta qualidade, confiável na indústria de dispositivos eletrônicos. Ele é especificamente feito para ser usado na fabricação de indutores integrados e indutores SMD. Este pó fino é composto por uma mistura de silício e ferro, o que pode cuidadosamente garantir consistência e qualidade.
Sobre a criação de eletrônicos superiores, o uso do pó metálico fino KPT FeSi não pode ser enfatizado demais. Este produto possui propriedades magnéticas exemplares que o tornam ideal para uso em indutores. Indutores são amplamente usados em circuitos eletrônicos para filtrar sinais indesejados e manter a energia. O uso do pó metálico FeSi significa que esses indutores não são apenas eficazes, mas extremamente eficientes.
Na lista de recursos principais únicos do KPT FeSi Metal Fine Powder está o seu peso leve e tamanho de partícula uniforme. Este aspecto específico permite incorporar o pó no processo de produção, garantindo que o produto final tenha uma qualidade com desempenho constante. O pó também pode estar livre de impurezas, o que ajuda a garantir que os indutores feitos dele sejam de alta qualidade.
A alta permeabilidade magnética do FeSi Metal Fine Powder está relacionada à sua estrutura cristalina única. Essa estrutura cristalina é cuidadosamente controlada durante o processo de fabricação para garantir que esteja otimizada para indutores de alto desempenho. O resultado é um produto que irá armazenar e liberar energia eficientemente em um circuito.
O uso do KPT FeSi Metal Fine Powder não está limitado apenas à criação de indutores. O produto pode ser utilizado na fabricação de outros componentes eletrônicos que exigem alto desempenho magnético. Por exemplo, transformadores e sufocadores geralmente aproveitam também o uso da pó de aço FeSi.
Nome do Produto |
Indutor integrado e indutor SMD com pó fino |
Cor |
Cinza |
Aplicação |
metalurgia do pó, peças sinterizadas, etc. |
Certificações |
REACH, ISO |
aparência |
Impurezas Visíveis |
Produtos |
Processo |
D50 (um) |
T.D(g/cm3) |
C.T.(ppm) |
Especificações (malha) |
Fe49Co2V |
atomização combinada de água e gás |
5-13 |
4.5 |
≤3500 |
’-325/-400 |
FeNi50 |
atomização combinada de água e gás |
5-13 |
4.5 |
≤3000 |
’-325/-400 |
FeSiCr |
atomização combinada de água e gás |
5-13 |
4.0 |
≤3000 |
‘-300/-400 |
Fesi |
atomização combinada de água e gás |
5-13 |
4.0 |
≤4000 |
’-300/-400 |
Fésias |
atomização combinada de água e gás |
5-13 |
4.1 |
≤4000 |
‘-300/-400 |
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