ENEN

pudr haearn ar gyfer metallgymeriad puler

Hafan >  Cynnydd >  Pudwr Haearn >  pudr haearn atomigedig >  pudr haearn ar gyfer metallgymeriad puler

Cynhyrchion

Pudwr Allai Diffusion Atomig Haearn LAP100.29D2

Pudwr Allai Diffusion Atomig Haearn LAP100.29D2

Mae LAP100.29D2 yn addas ar gyfer cynhyrchu rhanau â llawenyddiaeth uchel a fuwch uchel.

Darllen mwy
Pwrder Alogadwydd Atomigedig LAP100.29D1

Pwrder Alogadwydd Atomigedig LAP100.29D1

Mae LAP100.29D1 yn cael ei ddefnyddio yn bennaf ar gyfer cynhyrchu materion eithaf ffrwd.

Darllen mwy
Pwrder Alogadur Ffosfor Atomigedig LAP100.29S2

Pwrder Alogadur Ffosfor Atomigedig LAP100.29S2

Mae LAP100.29S2 yn cael ei ddefnyddio'n sylweddol ar gyfer cynhyrchu rannau PM sy'n gofyn am raglunio ar ôl lusgo.

Darllen mwy
LAP100.29 Pwdr Haearn Atomized Dŵr Uchel Purdeb ar gyfer Rhannau Sintered PM

LAP100.29 Pwdr Haearn Atomized Dŵr Uchel Purdeb ar gyfer Rhannau Sintered PM

 Darllen mwy
Pwdr Haearn Atomized LAP100.29H ar gyfer Cyflwyno Rhannau Peulwriaeth Powdr

Pwdr Haearn Atomized LAP100.29H ar gyfer Cyflwyno Rhannau Peulwriaeth Powdr

 Darllen mwy
Pwdr Haearn Atomized o Uchder Cywasgedd LAP100.29A3 ar gyfer Rhannau Peulwriaeth Powdr (PM)

Pwdr Haearn Atomized o Uchder Cywasgedd LAP100.29A3 ar gyfer Rhannau Peulwriaeth Powdr (PM)

 Darllen mwy

Gadewch i law
neges

Os oes gennych unrhyw syniadau, cysylltwch â ni os gwelwch yn dda

Cysylltu â Ni
CYNLLUNIO CYFRIFOL GAN

Hawlfraint © Shanghai Knowhow Powder-Tech Co.,Ltd. Cedwir yr holl hawlfraint  -  Polisi Preifatrwydd